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日本有限會社NAS技研半導體采樣設備



特征

NAS Giken 的特點


出色的體蝕刻能力

我們的其中一項技術是稱為“批量蝕刻”的功能,它可以刮擦整個表面以回收晶圓內部的污染物。
進行批量蝕刻時,重要的是要確定表面是否可以均勻地挖掘。

我們的塊狀蝕刻性能非常好,我們保證平整度在 10% 以內。


世界**的污染回收能力

我們已獲得“斜面回收”的國際**,這是一種在硅片側面進行的污染物回收操作。

我們還獲得了親水硅片回收的國內**,并擁有世界**的功能和技術能力。


完善的售后服務
我們的產品可以在海外和日本國內進行維護。
作為一般規則,當我們收到來自日本和海外的維修請求時,我們將在 48 小時內與您聯系。
在確認故障或設備會議等細節的情況下,我們會酌情與業務合作伙伴舉行在線會議。
產品沒有維護期限,因此您可以安心長期使用我們的設備。


產品分類
簡易型微量金屬污染物采樣設備(SC系列)

微量金屬污染物全自動采樣設備(NAC系列)
基體蝕刻設備
氣相分解用 VPDBOX

無塵通風柜(NCD系列)


追加了SC-2000 / SC-3000無法實現的親水晶圓污染物采樣功能。

可以對硅材質以外的晶圓、由于蝕刻等導致表面粗糙的晶圓進行采樣操作。當然,也可以進行傳統的憎水采樣操作。


SC-3100

●通過與計算機聯機,可選擇豐富多樣的采樣模式,對晶圓正面以及端面的微量金屬污染物進行采樣操作。
●因為不太需要外部資源,也不太占地方,易于導入。
●采樣操作由設備自動完成,無需熟練工就可輕松完成采樣操作。
●采樣液的供給和支架具的移動由設備自動操作,與SC-2000相比,可以減少由操作員引起的污染。

SC-8100
●具有對親水晶圓污染物進行采樣的功能、對于硅材質以外的晶圓、由于基體蝕刻等導致表面粗糙的晶圓也可進行采樣操作。
●對于晶圓表面狀態、采樣液種類的要求不苛刻,另外,還可以對非重金屬離子進行采樣。
●當然,也可以進行傳統的憎水采樣操作。

SC-9100
●具有對親水晶圓污染物進行采樣的功能、對于硅材質以外的晶圓、由于基體蝕刻等導致表面粗糙的晶圓也可進行采樣操作。
●對于晶圓表面狀態,以及采樣液種類的采樣限制,本設備有所突破,另外,也可以對非重金屬離子進行采樣。
●當然,也可以進行常規的憎水采樣操作。
●采樣液的供給和支架具的移動由設備自動操作,與SC-8100相比,可以減少由操作員引起的污染。



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