超聲波清洗設備
工業
半導體行業
聲波監測儀
清洗系統液位儀
液面監測儀
流量計
用于實驗室和一般清洗
適用于實驗室和清洗較小的工件，如玻璃、或少量的工件。
WTC-404 / WTC-408 [臺式超聲波清洗機]
四種振蕩模式提供強有力的清洗，減少清洗不均勻。
W-113A [臺式超聲波清洗機]
這種緊湊型清洗機配備了一個三頻多振蕩系統，可選擇三種不同的頻率，具有不同的清洗特性，以提高清洗效果。
W-113MKII [臺式超聲波清洗機]
兩個頻率接近的 "強清洗 "模式可以**頑固的污垢。
WV-231-S1 [臺式超聲波清洗機]
通過降低清洗槽內的壓力（減壓），它還能有效地清洗一般難以清洗的微孔和盲孔內部。 它還能減少清洗時間。
工業清洗機
這些清洗機在工廠中用于清洗零件和其他部件。
可以根據客戶要求制造由振蕩器和換能器單元組成的獨立類型。
WDX系列[超聲波清洗機分離型]
我們獨特的DynaShock Modulation（DM）系統，通過全數字技術實現了從弱到強的清洗，提供*佳的清洗力。
WA系列[超聲波清洗機分離型]
RS485通訊（MODBUS® RTU）可以檢查各種設置和操作條件。 可以設置頻率和輸出功率，并可讀出振蕩狀態，用于預防性維護。
WSC28 / 40 [超聲波清洗機分離型]
FM+AM振蕩確保了槽內超聲波的均勻性，減少了清洗的不規則性，更能抵抗清洗材料、液體類型和深度的負荷波動。
WSC(M)系列[超聲波清洗機分離型]
用于生產線、設備集成和節省空間的緊湊型工業清洗機。
WTC-600-40/WTC-1200-40 [臺式超聲波清洗機]
大型桌面式洗衣機。 除了大容量的洗滌槽和高產量之外，該機器還可以通過語音指導和光電開關進行免提操作；FM+AM調制系統減少了不均勻的洗滌，是一種高效、節能的類型。
半導體行業的清洗機
用于清洗半導體晶圓和掩模的高頻清洗機。
根據不同的目的，可以進行批量清洗和單晶硅清洗。
W-357BM系列[高頻分離型]
分離式清洗機由一個發振器和一個換能器單元組成。
批量式清洗允許一次清洗多個半導體晶圓。
振蕩器單元可根據客戶要求制造。
流動水式超聲波清洗機[高頻點式]
脈沖噴射清洗機在干凈的水流中進行清洗。
適用于單晶片清洗。
流動水式超聲波清洗機[高頻線型]
脈沖噴射清洗機在干凈的水流中進行清洗。
顆粒會被清洗液流水幕所**。
石英振動體清洗機【高頻石英振動體清洗機】
這種清洗機通過在石英振動體上疊加超聲波來清洗晶片和掩模。
它實現了低損害和高清洗度。
聲壓計
將傳感器放在超聲波清洗機的水槽（或流動的水）中，聲壓強度以mV為單位顯示。
HUS-3 [便攜式聲壓計]
是清洗質量控制的必需品，用于監測超聲波清洗機的超聲波輸出。 配有可充電電池，便于攜帶。
超聲波清洗系統
超聲波清洗系統
使用具有內部設計獨特功能的換能器，公司可以靈活地響應客戶的要求，生產具有定制規格的設備等。